一、真空鍍膜材料
1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、銻靶Sb、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶、銅靶Cu、石墨靶 C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鎳靶Ni、銀靶Ag、S.S不銹鋼靶材等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶等……
陶瓷濺射靶材：單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶（ZGO）、氧化鋅硼靶（ZBO）、砷化鎵靶(GaAs)，磷化鎵靶(GaP)，鉭酸鋰靶(LiTa)，鈮酸鋰靶(LiN)、二硼化鈦靶（TiB2 ）等…
2．高純光學鍍膜材料（99.9％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…
天源公司自主研發(fā)的真空濺射靶材、光學鍍膜材料廣泛應用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學鍍膜及鍍膜玻璃工業(yè)與平板顯視行業(yè)。其靶材的制備都是根據(jù)其材料特性來加工的：分熱壓燒結工藝法和真空熔鑄工藝法，產(chǎn)品均具有純度高，微觀組織優(yōu)異及利用率高等特點，靶型有：平面矩形，管形，圓盤形，環(huán)形，片狀，粉狀等，規(guī)格和成分還可以根據(jù)用戶的具體要求來定做。
二、新型半導體��
太陽能電池用單晶硅、多晶硅、大直徑硅單晶拋光片、鍺片、鍺單晶、金屬鍺及ZAO導電玻璃、增透玻璃等……
三、高純金屬及氧化物（99.9%——99.999％）
1. 高純金屬氧化物顆粒、片及絲
高純鋁顆粒/片、高純鉻顆粒/片、高純鎳顆粒/片、高純鈦顆粒/片、高純鈷顆粒/片、高純鋅顆粒/片、高純錫片/顆粒、高純鉛顆粒/片、高純石墨片、高純銅顆粒、高純鐵顆粒/片、高純鍺顆粒/片、高純鈮顆粒/片、高純硅顆粒/片、高純鎵顆粒/片、氧化鎵顆粒/片、高純砷顆粒/片、氧化砷片、高純銦顆粒/片、氧化銦顆粒/片、高純碲顆粒/片、高純鎘顆粒/片、高純銻顆粒/片、氧化銻顆粒/片、高純鉿顆粒/片、高純鉑顆粒/片、高純鉬顆粒/片、高純鎂片、硅-鋁絲、鉭絲、高純錳片、高純鎢絲、高純硼顆粒/片、高純硒顆粒/片、高純鉍顆粒/片、氧化鉍顆粒/片、氧化鈮顆粒/片、氧化鉭顆粒/片、氧化鋁顆粒、硝酸銀顆粒、高純銀顆粒/絲、氧化銀絲、氰化銀鉀顆粒、氰化金鉀顆粒、氯化鈀顆粒、草酸鈷片、四氧化三鈷顆粒、氧化鈷顆粒、四氧化三錳顆粒、金屬碘化物材料等…
2．高純金屬及氧化物粉末
高純鋁粉、高純鉻粉、高純鎳粉、高純鈦粉、高純鈷粉、高純鋅粉、高純錫粉、高純鉛粉、高純銅粉、高純鐵粉、高純鍺粉、高純鈮粉、高純硅粉、高純鎵粉、氧化鎵粉、高純砷粉、氧化砷粉、高純銦粉、氧化銦粉、高純碲粉、高純鎘粉、高純銻粉、氧化銻粉、高純鉿粉、高純鉑粉、高純鉬粉、高純鎂粉、高純錳粉、高純鎢粉、高純硼粉、高純硒粉、高純鉍粉、氧化鉍粉、氧化鈮粉、氧化鉭粉、氧化鋁粉、硝酸銀粉、高純銀粉、氧化銀粉、氰化銀鉀粉、氰化金鉀粉、氯化鈀粉、草酸鈷粉、四氧化三鈷粉、氧化鈷粉、四氧化三錳粉、白云母粉、不銹鋼粉…